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          JCP500 高品質(zhì)多靶磁控濺射鍍膜設(shè)備

          具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
          • 公司名稱 北京泰科諾科技有限公司
          • 品牌
          • 型號(hào) JCP500
          • 產(chǎn)地
          • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
          • 更新時(shí)間 2019/8/8 9:51:47
          • 訪問(wèn)次數(shù) 549

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            北京泰科諾科技有限公司自2003年成立以來(lái),一直專注于真空薄膜新材料沉積設(shè)備、真空技術(shù)應(yīng)用設(shè)備及其工藝。是一家集研發(fā)、設(shè)計(jì)、制造、銷售和服務(wù)于一體的*,在行業(yè)內(nèi)獨(dú)樹(shù)一幟。

            目前形成:一總部(北京昌平)二基地(懷來(lái)、任丘)的格局。

            公司擁有一支由多位教授、博士等*的技術(shù)研發(fā)、顧問(wèn)團(tuán)隊(duì),具有較強(qiáng)的自主研發(fā)能力,確保了真空設(shè)備產(chǎn)品的高水平;同時(shí)建有研發(fā)鍍膜工藝、服務(wù)客戶的開(kāi)發(fā)實(shí)驗(yàn)室,始終保持技術(shù)優(yōu)勢(shì)。

            現(xiàn)有員工80人,其中博士以上學(xué)歷2名,碩士以上學(xué)歷4名,大專以上學(xué)歷45人。

            公司主要研發(fā)設(shè)計(jì)生產(chǎn)磁控濺射鍍膜機(jī)、蒸發(fā)鍍膜機(jī)、多功能復(fù)合鍍膜機(jī)粉體鍍膜設(shè)備、高真空應(yīng)用爐、CVD金剛石設(shè)備大型應(yīng)用定制設(shè)備以及與之配套的工藝技術(shù)。廣泛應(yīng)用于各大高等院校、科研院所及企業(yè)進(jìn)行薄膜新材料的科研和批量制備。真空產(chǎn)品、技術(shù)及其服務(wù)已經(jīng)覆蓋全國(guó)的28個(gè)省市有超過(guò)1600臺(tái)設(shè)備在運(yùn)行,而且遠(yuǎn)銷澳大利亞、美國(guó)、土耳其馬來(lái)西亞等國(guó),深受用戶的好評(píng)。

          蒸發(fā)鍍膜設(shè)備,磁控鍍膜設(shè)備,電子束鍍膜設(shè)備,熱絲CVD設(shè)備,高真空退火爐,裝飾鍍膜設(shè)備

          產(chǎn)地類別 國(guó)產(chǎn) 價(jià)格區(qū)間 面議
          應(yīng)用領(lǐng)域 電子,交通,冶金,航天,汽車

          1、產(chǎn)品特點(diǎn)/用途:

          ?多靶磁控濺射鍍膜設(shè)備可濺射/蒸發(fā)兩用;占地面積小,價(jià)格便宜,性能穩(wěn)定,使用維護(hù)成本低;

          ?多靶磁控濺射鍍膜設(shè)備可用于制備單層及多層金屬膜、介質(zhì)膜、半導(dǎo)體膜、磁性膜、傳感器膜及耐熱合金膜、硬質(zhì)膜、耐腐蝕膜等;

          ?鍍膜示例:銀、鋁、銅、鎳、鉻、鎳鉻合金、氧化鈦、ITO、二氧化硅等;

          ?單靶濺射、多靶依次濺射、共同濺射等功能。

          2、技術(shù)參數(shù)

          型號(hào)JCP500
          真空腔室結(jié)構(gòu)立式前開(kāi)門結(jié)構(gòu),后置抽氣系統(tǒng)
          真空腔室尺寸Φ500×H420mm
          加熱溫度室溫~500℃
          濺射方式上下濺射可選
          旋轉(zhuǎn)基片臺(tái)Φ150mm
          膜厚不均勻性Φ100mm范圍內(nèi)≤±5.0%
          濺射靶/蒸發(fā)電極Φ3英寸磁控靶3支,兼容DC/MF/RF濺射
          工藝氣體2~3路氣體流量控制
          控制方式PLC+觸摸屏人機(jī)界面半自動(dòng)控制系統(tǒng)
          占地面積(主機(jī))L1900×W800×H1900mm
          總功率≥10KW

           



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