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          ZHD300 高真空電阻蒸發(fā)鍍膜機(jī) 現(xiàn)貨供應(yīng)

          參考價(jià) 14
          訂貨量 ≥1
          具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
          • 公司名稱 北京泰科諾科技有限公司
          • 品牌
          • 型號(hào) ZHD300
          • 產(chǎn)地 北京昌平
          • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
          • 更新時(shí)間 2019/8/6 9:42:04
          • 訪問(wèn)次數(shù) 419

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            北京泰科諾科技有限公司自2003年成立以來(lái),一直專注于真空薄膜新材料沉積設(shè)備、真空技術(shù)應(yīng)用設(shè)備及其工藝。是一家集研發(fā)、設(shè)計(jì)、制造、銷售和服務(wù)于一體的*,在行業(yè)內(nèi)獨(dú)樹(shù)一幟。

            目前形成:一總部(北京昌平)二基地(懷來(lái)、任丘)的格局。

            公司擁有一支由多位教授、博士等*的技術(shù)研發(fā)、顧問(wèn)團(tuán)隊(duì),具有較強(qiáng)的自主研發(fā)能力,確保了真空設(shè)備產(chǎn)品的高水平;同時(shí)建有研發(fā)鍍膜工藝、服務(wù)客戶的開(kāi)發(fā)實(shí)驗(yàn)室,始終保持技術(shù)優(yōu)勢(shì)。

            現(xiàn)有員工80人,其中博士以上學(xué)歷2名,碩士以上學(xué)歷4名,大專以上學(xué)歷45人。

            公司主要研發(fā)設(shè)計(jì)生產(chǎn)磁控濺射鍍膜機(jī)、蒸發(fā)鍍膜機(jī)多功能復(fù)合鍍膜機(jī)、粉體鍍膜設(shè)備、高真空應(yīng)用爐、CVD金剛石設(shè)備、大型應(yīng)用定制設(shè)備以及與之配套的工藝技術(shù)廣泛應(yīng)用于各大高等院校、科研院所及企業(yè)進(jìn)行薄膜新材料的科研和批量制備。真空產(chǎn)品、技術(shù)及其服務(wù)已經(jīng)覆蓋全國(guó)的28個(gè)省市有超過(guò)1600臺(tái)設(shè)備在運(yùn)行,而且遠(yuǎn)銷澳大利亞、美國(guó)土耳其、馬來(lái)西亞等國(guó)深受用戶的好評(píng)。

          蒸發(fā)鍍膜設(shè)備,磁控鍍膜設(shè)備,電子束鍍膜設(shè)備,熱絲CVD設(shè)備,高真空退火爐,裝飾鍍膜設(shè)備

          產(chǎn)地類別 國(guó)產(chǎn) 價(jià)格區(qū)間 面議
          應(yīng)用領(lǐng)域 電子,紡織皮革,冶金,航天,汽車

          1、產(chǎn)品特點(diǎn)/用途:
          ? 電阻蒸發(fā)鍍膜設(shè)備一體化設(shè)計(jì),占地面積小,*,性能穩(wěn)定,使用維護(hù)成本低;
          ? 電阻蒸發(fā)鍍膜設(shè)備配備2組蒸發(fā)源,兼容有機(jī)蒸發(fā)與無(wú)機(jī)蒸發(fā),多元共蒸獲得復(fù)合膜/分蒸獲得多層膜,功能強(qiáng)大,性能穩(wěn)定;
          ? 適用于實(shí)驗(yàn)室制備金屬單質(zhì)膜、半導(dǎo)體膜、有機(jī)膜;

              適用于鍍制低熔點(diǎn)金屬及合金材料薄膜,單層/多層/復(fù)合膜,例:銅、鋁、金、銀、鋇、鉍、鋅、銻等;

               適用于鍍制非金屬/化合物等材料薄膜;例:氧化鉬、氟化鋰等。 適用于有機(jī)材料蒸發(fā);

               適用于掃描電鏡制樣;

               適用于太陽(yáng)能電池、LED的研究和實(shí)驗(yàn)。

               也可用于生產(chǎn)線前期工藝試驗(yàn)等;

          ? 適用于蒸發(fā)鍍膜與手套箱環(huán)境有機(jī)融合。

          2、技術(shù)參數(shù):

          型號(hào)ZHD300
          鍍膜方式電阻蒸發(fā)
          真空腔室結(jié)構(gòu)玻璃鐘罩+不銹鋼底座
          真空腔室尺寸Φ300×H360mm
          加熱溫度室溫~250℃
          旋轉(zhuǎn)基片臺(tái)Φ100mm
          基片臺(tái)升降無(wú)
          膜厚不均勻性基片臺(tái)Φ80mm范圍內(nèi)≤±5.0%
          蒸發(fā)源2組金屬蒸發(fā)源
          控制方式PLC+觸摸屏控制
          占地面積主機(jī)L1180×W800×H1180mm

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