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Minilock-Orion PECVD沉積
- 公司名稱(chēng) 韋氏納米系統(tǒng)（深圳）有限公司
- 品牌
- 型號(hào) Minilock-Orion
- 產(chǎn)地
- 廠(chǎng)商性質(zhì) 代理商
- 更新時(shí)間 2018/8/21 10:06:54
- 訪(fǎng)問(wèn)次數(shù) 376
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Minilock-Orion III是一套*的等離子增強(qiáng)型化學(xué)汽相沉積(PECVD)系統(tǒng)。 系統(tǒng)的下電極尺寸可為200mm或300mm，且根據(jù)電極配置，可以處理單個(gè)基片或帶承片盤(pán)的基片(3”- 300mm尺寸)，或者多尺寸批處理基片(4x3”; 3x4”; 7x2”)。
Minilock-Orion III用于有毒/發(fā)火PECVD工藝。沉積薄膜：氧化物、氮氧化物、氮化物、無(wú)定形硅和碳化硅。工藝氣體：100%硅烷、氨、TEOS、二乙基硅烷、氧化亞氮、氧、氮、3甲基硅烷和甲烷。
該系統(tǒng)可選配一個(gè)三極管（Triode）或電感耦合等離子(ICP)源。三極管源使得用戶(hù)可以創(chuàng)建高密度等離子，從而控制薄膜應(yīng)力。
基片通過(guò)預(yù)真空室裝入工藝室，其避免了與工藝室以及任意殘余沉積副產(chǎn)品接觸，從而提高了用戶(hù)的安全性。預(yù)真空室還使得工藝室始終保持在真空下，從而保持反應(yīng)室與大氣隔絕。
Minilock-Orion III是一套*的等離子增強(qiáng)型化學(xué)汽相沉積(PECVD)系統(tǒng)。 系統(tǒng)的下電極尺寸可為200mm或300mm，且根據(jù)電極配置，可以處理單個(gè)基片或帶承片盤(pán)的基片(3”- 300mm尺寸)，或者多尺寸批處理基片(4x3”; 3x4”; 7x2”)。
Minilock-Orion III用于有毒/發(fā)火PECVD工藝。沉積薄膜：氧化物、氮氧化物、氮化物、無(wú)定形硅和碳化硅。工藝氣體：100%硅烷、氨、TEOS、二乙基硅烷、氧化亞氮、氧、氮、3甲基硅烷和甲烷。
該系統(tǒng)可選配一個(gè)三極管（Triode）或電感耦合等離子(ICP)源。三極管源使得用戶(hù)可以創(chuàng)建高密度等離子，從而控制薄膜應(yīng)力。
基片通過(guò)預(yù)真空室裝入工藝室，其避免了與工藝室以及任意殘余沉積副產(chǎn)品接觸，從而提高了用戶(hù)的安全性。預(yù)真空室還使得工藝室始終保持在真空下，從而保持反應(yīng)室與大氣隔絕。
典型用戶(hù)
| 采購(gòu)單位名稱(chēng) | 采購(gòu)時(shí)間 | 購(gòu)臺(tái)數(shù) | 應(yīng)用領(lǐng)域 |
|---|---|---|---|
西安交通大學(xué) | 2012/08/17 | 1 | 電子/電器/半導(dǎo)體 |
采購(gòu)中心
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