SD-900 型離子濺射儀噴金儀鍍膜儀樣品制備外觀亮麗做工精致，旋鈕式定時器檔位清晰，手感舒適；特殊定制的真空指示和電流指示表頭沉穩(wěn)大氣，具有歐洲典雅風范；前面板上的微泄漏氣閥門可以連接多種氣體；調(diào)節(jié)濺射電流大小，成膜速度快，質(zhì)量好；功能控制和定時皆由CPU調(diào)度，使用范圍廣。

SD-900型離子濺射儀噴金儀鍍膜儀樣品制備工作時結(jié)合內(nèi)部自動控制電路很容易控制真空室壓強、電離電流及選擇所需的電離氣體，獲得好的鍍膜效果。

配有高位定性的飛躍真空泵

“SD-900,The utility model has comfortable hand feeling, strong practicability, easy implement, novel construction, simple structure.

The micro leakage valve on the front panel can connect various gases; The sputtering current is regulated, the film speed is fast and the quality is good.;

Functional control and timing are all scheduled by CPU, with a wide range of applications.

It is easy to control the vacuum chamber pressure, ionization current and choose the required ionization gas when working in conjunction with the internal automatic control circuit, so as to achieve the best coating effect.

High qualitative jump vacuum pump

參數(shù)

2  主機規(guī)格：300mm×360mm×380mm（W×D×H）

2  靶（上部電極）：50mm×0.1mm（D×H）

2  靶材：Au（標配）

2  樣品室：玻璃腔體160mm×120mm（D×H）

2  靶材尺寸：Ф50mm

2  真空度：1 PA

2  電流：0-50mA

2  定時器：數(shù)碼計時0-999S

2  微型真空氣閥：可連接φ3mm軟管

2  可通入氣體： 多種

2  電壓： 0 -1600  DCV

2  機械泵：標準配置2L/S（國產(chǎn)VRD-8）

速率：0--10nm/min

用途：

1、適用于電鏡實驗室的掃描電子顯微鏡（SEM）觀察前對樣品的噴金、噴鉑。

2、非導體材料實驗電極制作（噴金、噴鉑。噴銀等）

3、其他可以滿足條件的鍍膜實驗。

特點:

特點：

1、簡單、經(jīng)濟、可靠、外觀精美。

2、可調(diào)節(jié)濺射電流和真空室壓強以控制鍍膜的速率和顆粒的大小，顆粒大小約4-20nm。

3、SETPLASMA手動啟動按鈕可預先設置好壓強和濺射電流避免對膜造成不必要的損傷。

4、真空保護可避免真空過低造成設備短路。

5、同時可以通過更換不同的靶材（金、鉑、銥、銀、銅等），以達到更細顆粒的涂層。

6、通過通入不同的惰性氣體以達到更純凈的涂層。

需要鍍膜的樣品