Leica EM ACE200 徠卡低真空鍍膜儀-Leica EM ACE200
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
- 公司名稱 鏈能金相實(shí)驗(yàn)設(shè)備南京有限公司
- 品牌 Leica/徠卡
- 型號(hào) Leica EM ACE200
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 其他
- 更新時(shí)間 2018/1/18 15:01:22
- 訪問(wèn)次數(shù) 1508
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徠卡低真空鍍膜儀-Leica EM ACE200概述 | ||
樣品進(jìn)行掃描電鏡觀察前,通常需要對(duì)其表面鍍一層金屬膜,以便減少觀察時(shí)產(chǎn)生的荷電,并增強(qiáng)二次電子或背散射電子信號(hào),獲得更好的信噪比。 Leica EM ACE200是一款低真空鍍膜儀,可以選擇離子濺射鍍金屬膜或者碳絲蒸發(fā)鍍碳膜功能,或者同時(shí)具有這兩種功能。能夠滿足日常SEM需求,也可用于X-射線能譜及波譜分析,或者TEM銅網(wǎng)鍍碳膜。全自動(dòng)電腦控制,自動(dòng)完成抽真空、鍍膜、放氣等全過(guò)程,一鍵操作。采用當(dāng)下非常流行的觸摸屏控制,簡(jiǎn)單方便。 | ||
徠卡低真空鍍膜儀-Leica EM ACE200性能 | ||
• *重現(xiàn)結(jié)果:運(yùn)行自動(dòng)化的進(jìn)程,并協(xié)助參數(shù)設(shè)置 • 小巧緊湊:設(shè)計(jì)緊湊,占地面積小節(jié)省了實(shí)驗(yàn)室空間 • 容易清洗:具備可拆卸門(mén)、卷簾、內(nèi)部屏蔽、光源、載物臺(tái) • 操作簡(jiǎn)便:直觀的觸摸屏和一鍵式操作 | ||
技術(shù)參數(shù) | ||
可任選離子濺射模式、碳絲蒸發(fā)鍍碳模式,或者雙模式, 可選輝光放電(用于網(wǎng)格表面親水化) | ||
設(shè)計(jì)脈沖式碳絲蒸發(fā)方式,可精確控制碳膜厚度 | ||
可選石英膜厚檢測(cè)器,精確控制鍍膜厚度,精度達(dá)0.1nm | ||
全自動(dòng)程序控制,自動(dòng)完成抽真空,鍍膜,放氣等過(guò)程 | ||
觸摸屏控制,簡(jiǎn)單方便 | ||
真空度≤7x10-3mbar | ||
濺射電流:0-150mA可調(diào) | ||
方形樣品倉(cāng)設(shè)計(jì),樣品倉(cāng)尺寸:140mm(寬)x145mm(深)x150mm(高) | ||
工作距離調(diào)節(jié)范圍:30-100mm |
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