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          化工儀器網>產品展廳>光學儀器及設備>光學測量儀>其它光學測量儀> DMD無掩膜光刻機

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          DMD無掩膜光刻機

          具體成交價以合同協(xié)議為準
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          光刻機

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          上海昊量光電設備有限公司  
          Aunion Tech Co., Ltd
          專業(yè)源自專注  專注成就未來

          自2008年成立以來,昊量光電專注于光電領域的技術服務與產品經銷,致力于引進guo外*先進性與創(chuàng)新性的光電技術與可靠產品,為國內Z前沿的科研與工業(yè)領域提供優(yōu)質的產品與服務,助力中國智造與中國創(chuàng)造! 目前,昊量光電已經與來自美國、歐洲、日本的多家光電產品制造商建立了緊密的合作關系。其代理品牌均處于相關領域的發(fā)展前沿,產品包括各類激光器、光電調制器、光學測量設備、精密光學元件等,所涉足的領域涵蓋了材料加工、光通訊、生物醫(yī)療、科學研究與國防等。

          昊量光電堅持“專業(yè)源自專注,專注成就未來”的經營理念。近年來,我們專注于前沿的細分市場,為量子光學、生物顯微、物聯(lián)傳感、精密加工、先進激光制造等領域的客戶提供系統(tǒng)解決方案。

          作為一家以技術溝通與技術服務見長的高科技企業(yè),我們所有的銷售與技術服務團隊成員都具有理工科方面的專業(yè)背景,并在公司接受相關領域的專業(yè)培訓,在售前技術溝通、售后產品安裝培訓、產品問題解決、軟硬件增值服務等方面為客戶提供更加專業(yè)化的服務!我們專業(yè)高效的商務與物流部門憑借多年積累的貿易經驗與規(guī)范化的制度流程,保障每一筆訂貨準時安全到達目的地,免除客戶的后顧之憂!

          秉承誠信、高效、創(chuàng)新、共贏的核心價值觀,昊量光電堅持以誠信為基石,憑借高效的運營機制和勇于創(chuàng)新的探索精神為我們的客戶與與合作伙伴不斷創(chuàng)造價值,實現(xiàn)各方共贏!

          立足于光電產業(yè),昊量光電始終堅持價值創(chuàng)造與創(chuàng)新,贏得客戶與合作伙伴的認可,不斷拓展業(yè)務領域的新邊疆,立志打造的代理服務品牌!

           

          激光器調制器,激光測量加工設備,光學部件,光譜儀,光纖器件,晶體,精密定位系統(tǒng)掃描系統(tǒng),探測器光子計數(shù)器,專用實驗設備,相機

          產地類別 國產 應用領域 化工,電子

          DMD無掩膜光刻機無需制造掩膜,采用DMD數(shù)字掩膜,可在抗蝕劑內曝光所希望的任意圖案。無掩膜光刻機可以讀取任何CAD數(shù)據(jù),除此之外DMD式無掩膜光刻機還可以讀取Bitmap, PNG, DXF, GDSⅡ等其它格式。DMD式無掩膜光刻機使用365nmLED光源,降低價格的同時實現(xiàn)了穩(wěn)定的曝光。采用10倍物鏡,一次曝光面積可達1mm´0.6mm,曝光時間僅需1s。結合電動移動平臺,可實現(xiàn)曝光拼接,分辨率可達到3mm??赏ㄟ^公司編寫的軟件完成詳細設定,使操作簡潔方便。

           

          DMD無掩膜光刻機與傳統(tǒng)的光刻機不同,AU-PALET光刻機采用DMD數(shù)字掩膜光刻技術,無需制造掩膜。大大降低了時間和成本。無掩膜光刻機可以讀取任何創(chuàng)建的CAD文件,直接進行光刻。除了CAD文件,還可以讀取豐富的其它格式的數(shù)據(jù),例如Bitmap, PNG, DXF, GDSⅡ等。

           

           

           

          AU-PALET DMD式無掩膜光刻機采用短波段的LED燈為光源,相對于其它的光源,擁有更高的穩(wěn)定性和更長的壽命,降低價格的同時實現(xiàn)了穩(wěn)定的曝光。AU-PALET 無掩膜光刻機為面曝光,采用10倍的物鏡,一次曝光面積可達到1mm´0.6mm,結合電動平移臺可實現(xiàn)曝光拼接,可達到更大的曝光面積??赏ㄟ^公司編寫的軟件完成簡單操作和詳細設定,操作簡潔方便。

           

          設備有限公司推出的DMD式無掩膜光刻機有兩種。

           

          ①  AU-PALET是一款快速光刻的無掩膜光刻機。本裝置采用375nm的LED光源,實現(xiàn)了穩(wěn)定的曝光,并且擁有更高的穩(wěn)定性和更長的壽命。采用10´的物鏡曝光面積達到1mm´0.6mm,光刻分辨率達到5mm,并在10s 內完成曝光。

          ②  

           

           

          ②AU-PALET­_new 是AU-PALET的升級版本,在光源上采用波長更短的365nm的LED燈作為光源,采用10´的物鏡曝光面積達到1mm´0.6mm,光刻分辨率達到3mm,并在1s 內完成曝光。

           

           

           

          u  主要特點

          • 高速度(1s)

          • 廣范圍(1´0.6mm)

          • 365nm LED光源

          • 高分辨率 (3mm)

          • 成本低

           

          u  主要應用

          磁性薄膜等的任意形狀的圖案的形成

          傳感器,半導體器件的制作

          MEMS器件的試制、

          光電子,LED的試制

          微流體器件的試制

          掩膜版制作

          細胞分離通道等的制作

          光波導路的制作

           

           

           

           

          主要參數(shù)

          型號

          參數(shù)

          AU-PALET

          AU-PALET_new

          光源

          375nm LED

          365nm LED

          光刻分辨率(使用10倍物鏡)

          5 mm

          3 mm

          曝光面積(使用10倍物鏡)

          1mm´0.6mm

          1mm´0.6mm

          平臺

          手動XYZq平臺

          手動XYZq平臺

          構成

          裝置本身,電腦, 軟件

          裝置本身,電腦, 軟件

          外形尺寸

          420(W) x 300(D) x 600(H)

          300(W) x 450(D) x430(H)

          選項

          2x鏡頭,電動平臺等

          2x鏡頭,電動平臺等

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