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          HTDC-300 上海浸漬鍍膜提拉機北京浸漬提拉機江蘇垂直提拉機

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           一、公司簡介:上霍桐實驗儀器有限公司由業(yè)內精英銷售員、骨干技術員、*儀器廠商聯袂開創(chuàng)的集研發(fā)、生產、銷售以及售后服務為一體的綜合儀器設備公司。我公司主要經營:按需定制成套反應裝置(加氫反應裝置、精餾裝置、微反評價裝置、固定床評價裝置、流化床評價裝置、催化劑評價裝置、能源環(huán)保評價裝置等),高低溫循環(huán)裝置、高溫循環(huán)器、小功率冷水機、浸漬提拉鍍膜機、顆粒強度測定儀、水熱反應釜等實驗室設備、儀器儀表。公司產品廣泛應用于科研單位、高校實驗、石油、化工、橡膠、農藥、染料、醫(yī)藥、食品等領域。公司秉承“質量是較好的口碑、服務是*的廣告”的經營理念為廣大新老客戶提供優(yōu)良的產品和優(yōu)質服務。我們的服務宗旨是“精誠服務,金石為開”。
          二:1、主要業(yè)務:  按需定制成套反應裝置(加氫反應裝置、精餾裝置、微反評價裝置、固定床評價裝置、流化床評價裝置、催化劑評價裝置、能源環(huán)保評價裝置等),高低溫循環(huán)裝置、高溫循環(huán)器、小功率冷水機、浸漬提拉鍍膜機、顆粒強度測定儀、水熱反應釜等實驗室設備、儀器儀表
          2、主要業(yè)務:我公司主要經營高低溫循環(huán)裝置、高溫循環(huán)器、小功率冷水機、浸漬提拉鍍膜機、顆粒強度測定儀、水熱反應釜等實驗室設備、儀器儀表。致力于按照客戶需求專業(yè)定制成套反應裝置如:催化劑評價裝置、能源環(huán)保裝置、化學反應裝置、環(huán)氧乙烷羰化釜式裝置、精餾裝置、聚合橡膠裝置、裂化催化劑微活性測定裝置、流化床微反評價裝置、煤制油裝置、微反評價裝置、乙二醇羰化氣固相微反裝置、蒸汽裂解制乙烯小試裝置、重油高壓加氫裝置、10ml氣固相微反裝置、10ml液相二段加氫微反裝置、100ml氣固相原顆粒裝置、100ml液相加氫原顆粒裝置、MN制氣裝置等成套反應裝置。
           3、高低溫循環(huán)裝置、高低溫循環(huán)器、高溫循環(huán)器、浸漬提拉鍍膜機、顆粒強度測定儀、小型冷水機、水熱反應釜等實驗室設備、儀器儀表以及為客戶專業(yè)定制成套反應裝置

          銷售實驗室器材、儀器儀表、機械設備及配件、機電設備及配件、化工原料及產品、(初危險化學品、監(jiān)控化學品、民用爆炸用品、)

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          HTDC-300浸漬提拉鍍膜機簡介

             HTDC-300浸漬提拉鍍膜機是適用于溶膠-凝膠法(Sol--Gel法,簡稱SG法)制備薄膜的浸漬提拉法的一款高精度儀器。核心部件采用進口配件,精準控制提拉速度,多次重復鍍膜無位置偏差。提拉速度、提拉高度、浸漬時間、循環(huán)鍍膜次數、浸漬時間、下降速度、停留時間均可以通過程序精確控制。適用于玻璃、Si(100)、Si(111)、藍寶石(Al?O?)、瓷片以及樹脂基板等常用基板。

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          浸漬提拉法簡介

          浸漬提拉法是將整個洗凈的基板浸人預先制備好的溶膠之中,然后以精確控制的均勻速度將基板平穩(wěn)地從溶膠中提拉出來,在粘度和重力作用下基板表面形成一層均勻的液膜,緊接著溶劑迅速蒸發(fā),于是附著在基板表面的溶膠迅速凝膠化而形成一層凝膠膜。工藝示意圖如下:

          影響薄膜厚度的因素很多,其中主要包括溶液的粘度、濃度、比重、提拉速度及提拉角度,溶劑的粘度、比重、蒸發(fā)速率以及環(huán)境的溫度、干燥條件等。

          HTDC-300浸漬提拉鍍膜機產品特點:

          ■采用進口直線導軌和伺服電機,精確控制均勻提拉速度。

          ■運行平穩(wěn)無抖動,液面無振動。保證設備的穩(wěn)定性以及成膜的均勻性。

          ■采用霍桐儀器自主研發(fā)的程序控制系統(tǒng),提拉速度、提拉高度、浸漬時間、鍍膜次數、鍍膜時間、下降速度、下降高度均可以通過程序控制調節(jié)

          ■品牌觸摸屏,界面清晰,操作簡便

          ■設計夾具,夾持更安全牢固

          ■整機噴塑處理,外觀精美大方

          HTDC-300浸漬提拉鍍膜機產品參數:

          1. zui大行程:0-300mm
          2. 提拉速度范圍:19999 μm/s,zui小分辨率1 μm/s
          3. 位置精度:<0.01mm
          4. 速度精度:±0.01%
          5. 浸漬時間:13900 s
          6. 鍍膜次數:11000
          7. 鍍膜間隔時間:13600 s
          8. 電源:AC 220V 50Hz


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