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          產(chǎn)品展廳

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          化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>實(shí)驗(yàn)室常用設(shè)備>其它實(shí)驗(yàn)室常用設(shè)備>鍍膜機(jī)>VTC-2DC 直流等離子磁控濺射鍍膜儀

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          VTC-2DC 直流等離子磁控濺射鍍膜儀

          具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

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            合肥科晶材料技術(shù)有限公司成立于1997年,是由一群來自麻省理工學(xué)院和加州大學(xué)伯克利分校的材料研究人員創(chuàng)辦的美國MTI公司與中科院合肥物質(zhì)科學(xué)研究院合資興辦的高新技術(shù)企業(yè)。主要生產(chǎn)氧化物晶體(A--Z)和材料實(shí)驗(yàn)室成套設(shè)備:包括“混料-壓料-燒料”(混料機(jī)、壓片機(jī)、箱式爐、真空管式爐)以及“定向-切割-研磨-拋光”(X射線定向儀、低速外圓鋸、金剛石線切割機(jī)、自動(dòng)研磨、拋光機(jī))。公司自主研發(fā)生產(chǎn)上百款不同規(guī)格尺寸、溫度、高溫高壓及快速升溫等產(chǎn)品,其中包括:箱式爐、氣氛爐、管式爐、井式爐、RTP快速升溫爐、高溫高壓爐、鍍膜機(jī)、清洗劑及新能源鋰離子電池研發(fā)等相關(guān)實(shí)驗(yàn)室設(shè)備?,F(xiàn)已成為氧化物晶體(A--Z)的主要制造商和材料研究實(shí)驗(yàn)室設(shè)備的*,為科研工作者提供材料研究解決方案。產(chǎn)品設(shè)計(jì)*、性能優(yōu)異,質(zhì)量可靠,性價(jià)比高,環(huán)保節(jié)能、返修率低,遠(yuǎn)銷到歐洲,美國,日本,德國等許多國家,廣泛應(yīng)用于物理、化學(xué)、冶金、醫(yī)學(xué)、新能源材料研發(fā)等領(lǐng)域,受到客戶*好評(píng)。
           
            科晶公司秉承"以人為本、技術(shù)為導(dǎo)、誠信為基、積極創(chuàng)新"的經(jīng)營理念,全力打造材料研發(fā)設(shè)備的品牌,竭力為科學(xué)進(jìn)步和社會(huì)發(fā)展做出貢獻(xiàn)。
           

          真空管式爐,高溫箱式爐,高速震動(dòng)球磨機(jī),RTP快速退火爐,高溫高壓爐,涂覆機(jī),電池制備設(shè)備等

          直流等離子磁控濺射鍍膜儀是一款小型的直流(DC)等離子體磁控濺射鍍膜儀系統(tǒng),系統(tǒng)中包含了所有所需的配件,如500W600V)的DC電源、2英寸的磁控濺射頭、石英真空腔體、真空泵和溫度控制器等。對(duì)于制作一些金屬薄膜,它是一款物美價(jià)廉的實(shí)驗(yàn)手。
          用直流磁控濺射儀可獲得單相Al

           直流等離子磁控濺射鍍膜儀技術(shù)參數(shù)

          輸入電源

          • 220VAC 50/60Hz, 單相
          • 1000W  (包括真空泵)

          等離子源

          • 一個(gè)500W,600V的直流電源安裝在移動(dòng)柜內(nèi)(點(diǎn)擊圖片查看詳細(xì)資料)

          磁控濺射頭

          • 一個(gè)2英寸磁控濺射頭(帶有水冷夾層),采用快速接頭與真空腔體相連接
          • 靶材尺寸: 直徑為50mm,zui大厚度1.5mm
          • 一個(gè)快速擋板安裝在法蘭上(手動(dòng)操作,見圖左3)
          • 濺射頭所需冷卻水:流速10ml/min(儀器中配有一臺(tái)流速為16ml/min的循環(huán)水冷機(jī))
          • 同時(shí)可選配1英寸濺射頭
               

          真空腔體

          • 真空腔體:160 mm OD x 150 mm ID x  250mm H,采用高純石英制作
          • 密封法蘭:直徑為165 mm .  采用金屬鋁制作,采用硅膠密封圈密封
          • 一個(gè)不銹鋼網(wǎng)罩住整個(gè)石英腔體,以屏蔽等離子體
          • 真空度:10-3 Torr (采用雙極旋片真空泵), 10-5 torr (采渦旋分子泵)

          載樣臺(tái)

          • 載樣臺(tái)可旋轉(zhuǎn)(為了制膜更加均勻)并可加熱
          • 載樣臺(tái)尺寸:直徑50mm (zui大可放置2英寸的基片)
          • 旋轉(zhuǎn)速度:1 - 20 rpm
          • 樣品的zui高加熱溫度為700℃,(短期使用,恒溫不超過1小時(shí)),長期使用溫度500℃
          • 控溫精度+/- 10℃

          真空泵

          可選用直聯(lián)式雙極旋片泵,也可選用德國制作的分子泵系統(tǒng)
                

          薄膜測(cè)厚儀

          • 一個(gè)精密的石英振動(dòng)薄膜測(cè)厚儀安裝在儀器上,可實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)薄膜的厚度,分辨率為0.10 ?  
          • LED顯示屏顯示,同時(shí)也輸入所制作薄膜的相關(guān)數(shù)據(jù)
             

          外形尺寸

               

          重量 70Kg

          質(zhì)保和質(zhì)量認(rèn)證

          • 一年質(zhì)保期,終生維護(hù)
          • CE認(rèn)證

          使用注意事項(xiàng)

          • 為了得到較好的金屬膜,特別是針對(duì)易氧化的金屬,如Al, Mg和Li等,必須通入高純惰性氣體(> 5N)
          • 強(qiáng)烈建議采用PPM極的氣體凈化系統(tǒng)(將鋼瓶中的惰性氣體通過凈化系統(tǒng)過后,再導(dǎo)入到真空腔體內(nèi))
          • 我們也可在設(shè)備中安裝射頻(RF)電源,用于濺射非導(dǎo)電靶材,來制備非金屬薄膜
              


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