高純硅分析等離子體發(fā)射光譜儀
- 公司名稱 北京華科易通分析儀器有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號
- 產(chǎn)地 北京
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時間 2019/12/10 16:54:49
- 訪問次數(shù) 1854
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應(yīng)用領(lǐng)域 | 環(huán)保,化工,石油,地礦,能源 |
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北京華科易通分析儀器有限公司,是高純硅分析等離子體發(fā)射光譜儀的專業(yè)制造廠商。它是集科研、生產(chǎn)、銷售、技術(shù)服務(wù)于一體的高科技企業(yè)。HK-2000型高純硅分析等離子體發(fā)射光譜儀,是我公司在現(xiàn)有技術(shù)的基礎(chǔ)上,吸收技術(shù)成果研制開發(fā)的產(chǎn)品。
(ICP-AES/OES),主要用于微量/痕量元素的分析,可分析的元素為大多數(shù)的金屬和硅,磷等少量的非金屬,共72種。廣泛應(yīng)用于稀土、貴金屬、合金材料、電子產(chǎn)品、醫(yī)藥衛(wèi)生、冶金、地質(zhì)、石油、化工、商檢、環(huán)保以及釹鐵硼、硅、硅鐵、鎢、鉬等行業(yè)分析檢測,可對待測樣品進(jìn)行定性或從超微量到常量的定量分析。
一、儀器整機主要性能參數(shù):
1、波長范圍:190~500nm(3600L/mm光柵)或190~800nm(2400L/mm光柵);
2、分辨率: 0.006nm(3600L/mm光柵)或0.01nm(2400L/mm光柵);
3、波長示值誤差和重復(fù)性:波長示值誤差≤0.02nm,重復(fù)性≤0.003nm;
4、掃描步距:0.0004nm;
5、重復(fù)性:RSD≤1.0%;
6、穩(wěn)定性:RSD≤1.5%;
7、檢出限:ppb級;
8、分析元素范圍:70余種金屬與非金屬元素;
9、線性范圍:7個數(shù)量級以上,且自吸效應(yīng)極低;
10、分析速度:每分鐘掃描zui快達(dá)25個元素以上;
11、等級證書:國家計量器具型式許可A級(且遠(yuǎn)優(yōu)于A級)。
12、必須有生產(chǎn)許可證:且規(guī)格要求滿足,測量范圍:190-500nm
13 規(guī)格大小:長寬高:1.5mX0.60mX1.2m 立式儀器方便推挪,免裝試驗臺*
二、儀器各部件詳細(xì)參數(shù):
射頻發(fā)生器(RF)
(1)電路類型:電感反饋自激式振蕩電路、同軸電纜輸出、匹配調(diào)諧、取功率反饋信號,進(jìn)行閉環(huán)自動控制;
(2)工作頻率:40.68MHz±0.05%;
(3)頻率穩(wěn)定性:≤0.05%;
(4)輸出功率:800~1200W;
分光器
(1)光路:Czerny-Turner;
(2)焦距:1000mm;
(3)光柵規(guī)格:離子刻蝕全息光柵;
(4)分光器恒溫裝置:26℃±1℃。
測光裝置
(1)光電倍增管規(guī)格:R212UH或R928;
(2)測光方式:單、多元素順序測量。
操作軟件:
(1)操作系統(tǒng):Windows XP 操作平臺;
(2)測定波長數(shù):任意選擇;
(3)分析速度:每分鐘zui快25個元素以上;
(4)數(shù)據(jù)庫:譜線庫11萬條以上;
(5)多窗口:在測量完一次結(jié)果后可以在顯示窗口保留上次結(jié)果同時、測量下一樣品;
(6)標(biāo)準(zhǔn)加入法:軟件要有標(biāo)準(zhǔn)加入法,以便在不同條件和應(yīng)用中下使用;
(7)分析模式:軟件默認(rèn)*分析模式,擁有儀器診斷、譜圖分析及幾種測量方式和幾種積分模 式,單位任選等多種功能;
(8)歷史數(shù)據(jù)庫:在歷史數(shù)據(jù)庫中,可以同時可選擇性地打印想要打印的批次分析結(jié)果;
(9)數(shù)據(jù)輸出:軟件支持激光打印機打印分析結(jié)果。
(10)語言:可中英文雙語