VTC-600-2HD型雙靶磁控濺射儀

具體成交價以合同協(xié)議為準

公司名稱 中美合資合肥科晶材料技術(shù)有限公司
品牌 其他品牌
型號 VTC-600-2HD型
產(chǎn)地
廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
更新時間 2024/10/21 19:08:53
訪問次數(shù) 3013

產(chǎn)品標簽

磁控濺射鍍膜儀磁控濺射鍍膜儀

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公司介紹 主營產(chǎn)品

　　合肥科晶材料技術(shù)有限公司成立于1997年，是由一群來自麻省理工學(xué)院和加州大學(xué)伯克利分校的材料研究人員創(chuàng)辦的美國MTI公司與中科院合肥物質(zhì)科學(xué)研究院合資興辦的高新技術(shù)企業(yè)。主要生產(chǎn)氧化物晶體(A--Z)和材料實驗室成套設(shè)備：包括“混料-壓料-燒料”(混料機、壓片機、箱式爐、真空管式爐)以及“定向-切割-研磨-拋光”(X射線定向儀、低速外圓鋸、金剛石線切割機、自動研磨、拋光機)。公司自主研發(fā)生產(chǎn)上百款不同規(guī)格尺寸、溫度、高溫高壓及快速升溫等產(chǎn)品，其中包括：箱式爐、氣氛爐、管式爐、井式爐、RTP快速升溫爐、高溫高壓爐、鍍膜機、清洗劑及新能源鋰離子電池研發(fā)等相關(guān)實驗室設(shè)備?，F(xiàn)已成為氧化物晶體(A--Z)的主要制造商和材料研究實驗室設(shè)備的*，為科研工作者提供材料研究解決方案。產(chǎn)品設(shè)計*、性能優(yōu)異，質(zhì)量可靠，性價比高，環(huán)保節(jié)能、返修率低，遠銷到歐洲，美國，日本，德國等許多國家，廣泛應(yīng)用于物理、化學(xué)、冶金、醫(yī)學(xué)、新能源材料研發(fā)等領(lǐng)域，受到客戶*好評。

　　科晶公司秉承"以人為本、技術(shù)為導(dǎo)、誠信為基、積極創(chuàng)新"的經(jīng)營理念,全力打造材料研發(fā)設(shè)備的品牌,竭力為科學(xué)進步和社會發(fā)展做出貢獻。

展開

真空管式爐，高溫箱式爐，高速震動球磨機，RTP快速退火爐，高溫高壓爐，涂覆機，電池制備設(shè)備等

詳細信息 在線詢價

產(chǎn)地類別	國產(chǎn)	價格區(qū)間	面議
應(yīng)用領(lǐng)域	地礦,電子

技術(shù)參數(shù)

結(jié)構(gòu)
輸入電源	220VAC 50/60Hz, 單相 2000W (包括泵)
濺射電源	安裝有兩個濺射電源直流（DC）電源：500W，針對于制作金屬膜射頻（RF）電源：600W，可制作氧化物和金屬膜同時可選配300W的射頻電源
磁控濺射頭	儀器中安裝有2個磁控濺射頭，而且都帶有水冷夾層，可通入冷卻水對靶材降溫其中一個濺射頭與射頻電源相連接，主要是濺射絕緣性靶材另一個濺射頭與直流電源相連接，主要濺射導(dǎo)電性靶材靶材尺寸要求：金屬靶：直徑為50mm,zui大厚度1.5mm 陶瓷靶：直徑為50mm,zui大厚度6mm 儀器中標配一個不銹鋼靶和氧化鋁陶瓷靶濺射頭所需冷卻水：流速10ml/min（儀器中配有一臺流速為16ml/min的循環(huán)水冷機） VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀可以根據(jù)自己的要求選擇2個射頻濺射頭或3個射頻濺射頭，訂購前需于本公司銷售人員
真空腔體	真空腔體：300 mm Dia x 300 mm h，采用不銹鋼制作觀察窗口： 100 mm diameter 腔體打開方式采用上頂開，使得換靶更加容易
載樣臺	載樣臺尺寸：140mm dia.（zui大可放置4"的基底）載樣臺可以旋轉(zhuǎn)，其速度為：1 - 20 rpm （可調(diào)）載樣臺zui高可加熱溫度為500℃，控溫精度為+/- 1.0 °C
氣體流量控制器	儀器內(nèi)部安裝有2個質(zhì)量流量計量程為：0-200sccm 氣體流量設(shè)置可以在6英寸的觸摸屏上進行操作
真空泵系統(tǒng)	配有一套分子泵系統(tǒng)（德國制作），采用一鍵式操作
薄膜測厚儀	一個精密的石英振動薄膜測厚儀安裝在儀器上，可實時監(jiān)測薄膜的厚度，分辨率為0.10 Å LED顯示屏顯示，同時也輸入所制作薄膜的相關(guān)數(shù)據(jù)
外形尺寸	L1300mm× W660mm× H1200mm
重量	160 kg
質(zhì)保期	一年質(zhì)保期，終生維護