薄膜真空沉積系統(tǒng)
- 公司名稱 QUANTUM量子科學(xué)儀器貿(mào)易(北京)有限公司
- 品牌
- 型號(hào)
- 產(chǎn)地 美國(guó)
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時(shí)間 2024/4/18 8:41:02
- 訪問次數(shù) 2705
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薄膜材料的真空、等離子制備、處理技術(shù)現(xiàn)已被廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、光電、太陽能等域的研發(fā)以及成產(chǎn)當(dāng)中,這些技術(shù)包括: 等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積反應(yīng)器(PECVD Reactors) 脈沖激光沉積系統(tǒng)(Pulsed Laser Deposition) 磁控濺射系統(tǒng)(Sputter Deposition System) 電子束沉積系統(tǒng)(E-beam Deposition Systems)
Quantum Design 引進(jìn)多家真空等離子生產(chǎn)商設(shè)備,產(chǎn)品線涵蓋通用系統(tǒng)到定制設(shè)備,來滿足中國(guó)科研機(jī)構(gòu)的不同需求,適合實(shí)驗(yàn)室及工業(yè)使用。
等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng) (PECVD)
資料下載 FLARION 系列:射頻等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng),高開放性、可擴(kuò)展定制 資料下載
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歡迎垂詢具體技術(shù)細(xì)節(jié)。
資料下載 FLOCON 系列:電腦控制氣體管理系統(tǒng) (computer controlled gas management systems) 資料下載 此外,Plasmionique公司還可以定制:電子束沉積系統(tǒng)(E-beam Deposition Systems) 混合沉積系統(tǒng)(Hybrid Deposition Reactors) 等離子 離子注入系統(tǒng) (Plasma Ion Implanter) 分子束外延系統(tǒng) (MBE Systems) 等離子、反應(yīng)離子、深反應(yīng)離子蝕刻反應(yīng)器(PE, RIE. DRIE Reactors)
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