青田恒韌完成新一輪融資,助力半導體前道電子束量測設(shè)備研發(fā)
【化工儀器網(wǎng) 廠商報道】 近日,青田恒韌智能科技有限公司(以下簡稱“青田恒韌”)宣布成功完成新一輪融資。本輪融資由啟迪之星投資,資金將主要用于半導體前道電子束量測設(shè)備CD-SEM的研發(fā)制造。
青田恒韌成立于2022年4月24日,注冊資本125萬元,是一家專注于半導體前道電子束量測CD-SEM設(shè)備研制的高科技企業(yè)。公司致力于研發(fā)并生產(chǎn)能夠完全替代Hitachi CG5000的CD-SEM設(shè)備,以打破該領(lǐng)域長期被國外企業(yè)壟斷的局面。
電子束檢測設(shè)備是一種高精度檢測設(shè)備,主要利用電子束掃描wafer表面并接收其散射信號,從而獲取wafer表面信息。在半導體領(lǐng)域,電子束檢測設(shè)備被廣泛應(yīng)用于保證和提高半導體產(chǎn)線的良率。然而,電子束檢測設(shè)備本身面臨著極高的技術(shù)門檻,研發(fā)難度極大。CD-SEM設(shè)備領(lǐng)域更是長期被Hitachi等少數(shù)國際巨頭所壟斷。
青田恒韌自成立以來,一直專注于CD-SEM設(shè)備的研發(fā)工作。公司團隊成員早在2019年底就率先提出研發(fā)CD-SEM設(shè)備的目標,并經(jīng)過不懈努力,于2023年年中初步掌握了高端CD-SEM用掃描電鏡的底層核心技術(shù)。在此基礎(chǔ)上,公司于該年年底完成了CD-SEM設(shè)備軟件部分的完整架構(gòu)工作,為在中國率先取得高端CD-SEM設(shè)備“0”的突破奠定了堅實基礎(chǔ)。
青田恒韌創(chuàng)始人趙博士表示,高端的CD-SEM設(shè)備(20nm的溝槽量測)涉及到眾多學科以及眾多學科之間的交叉影響問題,是一個極具挑戰(zhàn)性的復雜工程化設(shè)備。相比于低端CD-SEM(大于100nm的溝槽量測),高端CD-SEM的難度要大得多。因此,青田恒韌在研發(fā)過程中一直注重底層核心技術(shù)的突破和軟硬件之間的復雜勾稽關(guān)系的理清。
本輪融資的完成,將為青田恒韌在CD-SEM設(shè)備的研發(fā)和生產(chǎn)方面提供更多的資金支持。公司計劃將資金主要用于進一步加大研發(fā)投入,優(yōu)化產(chǎn)品設(shè)計,提高生產(chǎn)效率,以滿足國內(nèi)外市場對高端CD-SEM設(shè)備的需求。
關(guān)注本網(wǎng)官方微信 隨時閱讀專業(yè)資訊
- 吉姆西半導體:國內(nèi)再制造設(shè)備龍頭沖刺IPO 2024-11-21 15:05:49
- 近日,國內(nèi)領(lǐng)先的半導體設(shè)備平臺型公司——吉姆西半導體科技(無錫)股份有限公司(以下簡稱“吉姆西”)正式啟動了IPO輔導程序,擬在江蘇證監(jiān)局辦理輔導備案登記,輔導機構(gòu)為中信證券。
- 這家半導體公司獲200億巨額融資,打造12英寸集成電路生產(chǎn)線 2024-11-20 09:50:05
- 近日,京東方公告稱,公司擬通過下屬全資子公司天津京東方創(chuàng)投與燕東科技、亦莊科技、中發(fā)貳號基金、亦莊國投、北京國管、國芯聚源共同向北電集成增資199.90億元,用于投資建設(shè)12英寸集成電路生產(chǎn)線項目。
- 全新納米級3D晶體管面世 2024-11-09 11:29:04
- 近日,美國麻省理工學院團隊利用超薄半導體材料,成功研制出一種全新的納米級3D晶體管。
- 品質(zhì)創(chuàng)造價值 矽萬半導體驚艷亮相納博會 2024-10-29 10:21:33
- 在本次CHInano博覽會上,矽萬半導體向參展觀眾展示了其最新的半導體技術(shù)和產(chǎn)品,包括高精度/高灰度光刻解決方案、超大幅面高精度光刻解決方案等。
- 水凝膠半導體材料:開啟生物電子界面新時代的鑰匙 2024-10-29 08:47:38
- 近日,美國芝加哥大學普利茲克分子工程學院的研究團隊成功研發(fā)出一種具有強大半導體功能的新型水凝膠材料。這種材料不僅能在水中自由浮動,其獨特的物理和化學性質(zhì)更是使其成為連接生物組織與電子器件的理想界面。
版權(quán)與免責聲明
- 凡本網(wǎng)注明“來源:化工儀器網(wǎng)”的所有作品,均為浙江興旺寶明通網(wǎng)絡(luò)有限公司-化工儀器網(wǎng)合法擁有版權(quán)或有權(quán)使用的作品,未經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)不得轉(zhuǎn)載、摘編或利用其它方式使用上述作品。已經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)使用作品的,應(yīng)在授權(quán)范圍內(nèi)使用,并注明“來源:化工儀器網(wǎng)”。違反上述聲明者,本網(wǎng)將追究其相關(guān)法律責任。
- 本網(wǎng)轉(zhuǎn)載并注明自其它來源(非化工儀器網(wǎng))的作品,目的在于傳遞更多信息,并不代表本網(wǎng)贊同其觀點或和對其真實性負責,不承擔此類作品侵權(quán)行為的直接責任及連帶責任。其他媒體、網(wǎng)站或個人從本網(wǎng)轉(zhuǎn)載時,必須保留本網(wǎng)注明的作品第一來源,并自負版權(quán)等法律責任。
- 如涉及作品內(nèi)容、版權(quán)等問題,請在作品發(fā)表之日起一周內(nèi)與本網(wǎng)聯(lián)系,否則視為放棄相關(guān)權(quán)利。