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【重要公告】關(guān)于第三方針對(duì)奧法美嘉銷售設(shè)備提供的技術(shù)服務(wù)存在風(fēng)險(xiǎn)的通知尊敬的全體客戶和合作伙伴：作為美國(guó)應(yīng)特格微電子公司（Entegris，原PSS）科學(xué)器材的總代理，承蒙各位長(zhǎng)期以來(lái)對(duì)奧法美嘉的信任
2024/11/12
2024ˉ7Particle Genius——奧法美嘉新售后服務(wù)號(hào)：科技護(hù)航，服務(wù)升級(jí)
ParticleGenius——奧法美嘉新售后服務(wù)號(hào)：科技護(hù)航，服務(wù)升級(jí)在科技日新月異的今天，上海奧法美嘉（Alpharmaca）科技有限公司作為國(guó)家高新技術(shù)企業(yè)，正式推出全新售后服務(wù)號(hào)“Partic27
2024ˉ3儀器煥新，智啟未來(lái)：《推動(dòng)大規(guī)模設(shè)備更新和消費(fèi)品以舊換新行動(dòng)方案》解讀
近日，國(guó)務(wù)院發(fā)布了《推動(dòng)大規(guī)模設(shè)備更新和消費(fèi)品以舊換新行動(dòng)方案》，以在全國(guó)范圍內(nèi)推動(dòng)新一輪設(shè)備更新和消費(fèi)品以舊換?！斗桨浮穱@“堅(jiān)持市場(chǎng)為主、政府引導(dǎo)”、“堅(jiān)持鼓勵(lì)先進(jìn)、淘汰落后”和“堅(jiān)持標(biāo)準(zhǔn)、有序提27
2024ˉ32024年第十三屆新能源鋰電池技術(shù)博覽會(huì)在上海圓滿落幕
本屆博覽會(huì)堅(jiān)持以全球化視角為產(chǎn)業(yè)轉(zhuǎn)型升級(jí)搭建合作共贏的橋梁，分享技術(shù)動(dòng)態(tài)和未來(lái)發(fā)展趨勢(shì)，成為海內(nèi)外品牌企業(yè)前沿新品、創(chuàng)新技術(shù)的陣地。本屆博覽會(huì)堅(jiān)持以全球化視角為產(chǎn)業(yè)轉(zhuǎn)型升級(jí)搭建合作共贏的橋梁，分享技術(shù)28
2023ˉ312
2024ˉ12蛋白質(zhì)聚集——Nicomp 動(dòng)態(tài)光散射系統(tǒng)
全文共932字，閱讀大約需要5分鐘摘要：蛋白質(zhì)溶液中的聚集被證明會(huì)產(chǎn)生有害影響。對(duì)較大的聚集體可以進(jìn)行測(cè)量，但對(duì)0.150納米到2微米范圍內(nèi)的較小聚集體則難以量化。Nicomp®動(dòng)態(tài)光散射（DLS）技術(shù)可以證明聚集的存在，但不能提供聚集體絕對(duì)濃度的任何12
2024ˉ12LUM穩(wěn)定性分析儀助力穩(wěn)定性評(píng)估
米諾地爾屬于難溶性藥物，其粒徑在亞微米到微米級(jí)別，分散體系如果穩(wěn)定性差，可較短時(shí)間內(nèi)發(fā)生沉降分層。在實(shí)際使用過(guò)程中，穩(wěn)定性的差異也會(huì)影響產(chǎn)品均一性，產(chǎn)品中納米顆粒粒徑的情況。而納米顆粒的粒徑大小會(huì)直接影響其生發(fā)效果，是否會(huì)滲透，是否會(huì)被角質(zhì)層阻隔，是否在毛囊中7
2024ˉ1229
2024ˉ1129
2024ˉ11PSI高壓微射流均質(zhì)機(jī)的工作原理與特點(diǎn)介紹
意大利PSI公司生產(chǎn)的高壓微射流均質(zhì)機(jī)按高標(biāo)準(zhǔn)的醫(yī)藥級(jí)別設(shè)計(jì)而成，在高壓力、高處理量的前提下依舊能夠保持超低運(yùn)行噪音，其小巧緊湊的機(jī)身適應(yīng)實(shí)驗(yàn)室、小規(guī)模生產(chǎn)及中試、中等規(guī)模生產(chǎn)環(huán)境；全系產(chǎn)品模塊化設(shè)計(jì)，均可通過(guò)核心配件的串、并聯(lián)組裝升級(jí)為大規(guī)模生產(chǎn)設(shè)備。由PS23
2024ˉ11日本HM&M的UAM機(jī)型珠磨機(jī)表現(xiàn)出了哪些優(yōu)勢(shì)？
常見(jiàn)分散方法的球磨法或砂磨機(jī)，在分散時(shí)物料、磨珠與機(jī)體之間的撞擊會(huì)對(duì)納米晶、混懸劑中的納米顆粒造成損傷，磨損的材料進(jìn)入料液中會(huì)變成難以除去的雜質(zhì)，這對(duì)料液的純度產(chǎn)生不利的影響，此外，機(jī)械力過(guò)大時(shí)局部升溫過(guò)快，也會(huì)導(dǎo)致物料的不穩(wěn)定，影響后續(xù)的使用。日本HM&M的22
2024ˉ1118
2024ˉ11大顆粒（LPC）對(duì)拋光效率和良品率的影響 — TEOS層的CMP拋光研究
本文隸屬于一體化解決方案系列，全文共6324字，閱讀大約需要21分鐘引言：LPC對(duì)CMP制程工藝的影響隨著半導(dǎo)體行業(yè)的蓬勃發(fā)展，作為重要工藝段的CMP獲得了廣泛的關(guān)注。而作為此工藝段的重要原料-CMPslurry，更是諸多學(xué)者研究的對(duì)象。本文將重點(diǎn)結(jié)合Liu團(tuán)VIDEO CENTER
AccuSizer780A2000SIS不溶性微粒檢測(cè)儀集自動(dòng)進(jìn)樣、自動(dòng)檢測(cè)、數(shù)據(jù)處理以及自動(dòng)清洗等全自動(dòng)檢測(cè)功能于一身，為注射劑檢測(cè)提供安全、快捷、...
AccuSizer780顆粒計(jì)數(shù)器系列粒度儀采用了先進(jìn)的SPOS單顆粒技術(shù)和自動(dòng)稀釋進(jìn)樣模塊，能真實(shí)地測(cè)試出樣品尾端大粒子的粒度分布和顆粒個(gè)數(shù)（濃度）...
AccuSizer780顆粒計(jì)數(shù)器系列粒度儀采用了先進(jìn)的SPOS單顆粒技術(shù)和帶有轉(zhuǎn)隸的自動(dòng)稀釋進(jìn)樣模塊，能真實(shí)地測(cè)試出樣品尾端大粒子的粒度分布和顆粒個(gè)...
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